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Segmented Epiの原理と技術的特徴

Segmented Epiの原理と技術的特徴. 下のような点が技術的に重要である;1)基板との間 に挿入されるバッファー層の制御、2)電子が走行 する歪みingaas量子井戸層の形成と結晶性の制 御、3)ingaas層前後のn型algaas層を始めとす る極薄膜結晶層の設計と制御。1)及び2)は半導体の グして,不純物濃度による2 種類のポーラス層を 選択的に形成する。これをh2 中で高温アニーリン グすると,下側のメゾポーラス層は,空隙が繋が って大きなキャビティとなり,一方,表層のナノ ポーラス層は単結晶si のダイヤフラムとなる(図 1 (b))。

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下のような点が技術的に重要である;1)基板との間 に挿入されるバッファー層の制御、2)電子が走行 する歪みingaas量子井戸層の形成と結晶性の制 御、3)ingaas層前後のn型algaas層を始めとす る極薄膜結晶層の設計と制御。1)及び2)は半導体の 本章では,gps の仕組みとして,gps が採用 している距離測定の原理や航法メッセージの内容 など,やや立ち入った技術的詳細を解説する.航法 メッセージの利用法や位置計算については,概略の アルゴリズムも示すこととする. グして,不純物濃度による2 種類のポーラス層を 選択的に形成する。これをh2 中で高温アニーリン グすると,下側のメゾポーラス層は,空隙が繋が って大きなキャビティとなり,一方,表層のナノ ポーラス層は単結晶si のダイヤフラムとなる(図 1 (b))。

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